Chemosphere · 2003
Decomposition of halogenated methanes in oxygen-free gas mixtures by the use of a silent electric discharge.
СтатьяПоддержка исследования: вне правительства СШАНазвание и аннотация: Перевод в очереди
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Föglein K A, Szépvölgyi J, Dombi A
Аннотация
A silent electric discharge was applied to decompose halogenated methanes including CCl4, CHCl3, CFCl3, CF2Cl2 and CF3Cl, in argon-containing gas mixtures. The decompositions of the target compounds were studied in static reactors at a fixed electric field and room temperature. The reaction products were analyzed by FT-IR spectroscopy, gas chromatography and UV spectrophotometry. The results demonstrated, that the radical-type decomposition of chlorofluoromethanes led to products formed by realignment of the halogen atoms. The decomposition of CCl4 was faster than that of the cholorofluoromethanes, and produced perchloroethane and chlorine. CHCl3 exhibited the highest decomposition rate and produced a large variety of products.