Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.) · 2012
Transparent high-performance thin film transistors from solution-processed SnO2 /ZrO2 gel-like precursors.
СтатьяПоддержка исследования: вне правительства СШАНазвание и аннотация: Перевод в очереди
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Jang Jaewon, Kitsomboonloha Rungrot, Swisher Sarah L, Park Eung Seok, Kang Hongki, Subramanian Vivek
Аннотация
This work employs novel SnO(2) gel-like precursors in conjunction with sol-gel deposited ZrO(2) gate dielectrics to realize high-performance transparent transistors. Representative devices show excellent performance and transparency, and deliver mobility of 103 cm(2) V(-1) s(-1) in saturation at operation voltages as low as 2 V, a sub-threshold swing of only 0.3 V/decade, and /(on) //(off) of 10(4) ~10(5) .