Journal of the American Chemical Society · 2006
Growth of ultrathin films of amorphous ruthenium-phosphorus alloys using a single source CVD precursor.
СтатьяПоддержка исследования: вне правительства СШАНазвание и аннотация: Перевод в очереди
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Shin Jinhong, Waheed Abdul, Agapiou Kyriacos, Winkenwerder Wyatt A, Kim Hyun-Wu, Jones Richard A, Hwang Gyeong S, Ekerdt John G
Аннотация
Thin films ( approximately 30 nm) of amorphous RuP alloys (P approximately 15-20%) can be grown by CVD from the single source precursor cis-H2Ru(PMe3)4 at 250-300 degrees C and 200 mTorr pressure on native SiO2.