MedElevator Войти в исследования
← Поиск публикаций

DOI 10.1021/ja0673938

Медицинская библиотека · Journal of the American Chemical Society · 2006

Growth of ultrathin films of amorphous ruthenium-phosphorus alloys using a single source CVD precursor.

Shin Jinhong, Waheed Abdul, Agapiou Kyriacos, Winkenwerder Wyatt A, Kim Hyun-Wu, Jones Richard A, Hwang Gyeong S, Ekerdt John G

СтатьяПоддержка исследования: вне правительства СШАПеревод в очереди

Аннотация

Thin films ( approximately 30 nm) of amorphous RuP alloys (P approximately 15-20%) can be grown by CVD from the single source precursor cis-H2Ru(PMe3)4 at 250-300 degrees C and 200 mTorr pressure on native SiO2.

Для цитирования: Shin Jinhong, Waheed Abdul, Agapiou Kyriacos, Winkenwerder Wyatt A, Kim Hyun-Wu, Jones Richard A, Hwang Gyeong S, Ekerdt John G. Growth of ultrathin films of amorphous ruthenium-phosphorus alloys using a single source CVD precursor.. Journal of the American Chemical Society. 2006. DOI: 10.1021/ja0673938.

Предметные рубрики MeSH

Membranes, ArtificialOrganometallic CompoundsParticle SizePhosphorusRutheniumSurface PropertiesTemperature
Подготовка и перевод публикации
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…

История · было → стало

Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.

Тип публикации указан по данным источника. Уровень доказательности автоматически не присваивается.