MedElevator Войти в исследования
← Поиск публикаций

DOI 10.1002/tcr.70186

Медицинская библиотека · Chemical record (New York, N.Y.) · 2026

Printing to Fight Antimicrobial Resistance Through Nano/Microstructured Platforms.

Puleo Giorgia, Orecchio Silvia, Savoca Dario, Pellerito Claudia, Ferrara Vittorio, Piscopo Vincenzo, Fortuna Sebastiano Alberto, Giardina Alessandra, Pignataro Bruno, Costanzo Paola, Campanile Floriana, Arrabito Giuseppe

СтатьяОбзорПеревод в очереди

Аннотация

Antimicrobial resistance is one of the most pressing global public health threats, responsible for millions of deaths annually. To tackle this issue, additive manufacturing has been increasingly exploited to fabricate structured antimicrobial platforms with precise control over composition, geometry, and release kinetics. This review covers the most relevant approaches across different scales, from dip-pen nanolithography and inkjet printing to 3D and 4D printing, emphasizing the role of nanoscale confinement, microenvironmental control, and interfacial chemistry as key design parameters. Polymeric matrices, metal and metal oxide nanostructures, and theranostic platforms are discussed in relation to their fabrication-dependent properties, including material stability, ageing, and translational challenges. Finally, stimuli-responsive architectures, phototherapeutic strategies, and artificial intelligence-driven design are outlined as emerging tools toward next-generation antimicrobial materials.

Для цитирования: Puleo Giorgia, Orecchio Silvia, Savoca Dario, Pellerito Claudia, Ferrara Vittorio, Piscopo Vincenzo, Fortuna Sebastiano Alberto, Giardina Alessandra, Pignataro Bruno, Costanzo Paola, Campanile Floriana, Arrabito Giuseppe. Printing to Fight Antimicrobial Resistance Through Nano/Microstructured Platforms.. Chemical record (New York, N.Y.). 2026. DOI: 10.1002/tcr.70186.

Предметные рубрики MeSH

Подготовка и перевод публикации
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…

История · было → стало

Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.

Тип публикации указан по данным источника. Уровень доказательности автоматически не присваивается.