MedElevator Войти в исследования
← Поиск публикаций

DOI 10.1021/acs.nanolett.6c00418

Медицинская библиотека · Nano letters · 2026

Atomic and Electronic Structure of Strongly Charged Domain Walls in van der Waals α-In2Se3.

Nolan Gillian, Han Edmund, Nahid Shahriar Muhammad, Carmichael Patrick, van der Zande Arend M, Schleife André, Huang Pinshane Y

СтатьяПеревод пока не подготовлен

Аннотация

Here, we use atomic resolution scanning transmission electron microscopy (STEM) and first-principles calculations to study the atomic and electronic structure of strongly charged domain walls in α-In2Se3. STEM imaging and density functional theory (DFT) show that head-to-head (HH) domain walls contain a layer of β/β'-In2Se3, whereas tail-to-tail (TT) domain walls are atomically abrupt. We apply 4D STEM and multislice electron ptychography to map ferroelectric domains in 2D and 3D, showing that nearly 180° domain walls exhibit complex, curved 3D structures that differ from ideal 180° structures. First-principles simulations predict localized conducting states within an ∼1 nm thick layer at both HH and TT domain walls, such as a midgap state at the β layer of the HH domain wall. These properties make strongly charged domain walls in α-In2Se3 excellent candidates for realizing 2D electron or hole gases and domain wall engineering in van der Waals ferroelectrics.

Для цитирования: Nolan Gillian, Han Edmund, Nahid Shahriar Muhammad, Carmichael Patrick, van der Zande Arend M, Schleife André, Huang Pinshane Y. Atomic and Electronic Structure of Strongly Charged Domain Walls in van der Waals α-In2Se3.. Nano letters. 2026. DOI: 10.1021/acs.nanolett.6c00418.
Подготовка и перевод публикации
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…

История · было → стало

Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.

Тип публикации указан по данным источника. Уровень доказательности автоматически не присваивается.