Nano letters · 2024
Pushing the Thickness Limit of the Giant Rashba Effect in Ferroelectric Semiconductor GeTe.
СтатьяНазвание и аннотация: Перевод пока не подготовлен
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Croes Boris, Llopez Alexandre, Tagne-Kaegom Calvin, Tegomo-Chiogo Bodry, Kierren Bertrand, Müller Pierre, Curiotto Stefano, Le Fèvre Patrick, Bertran François, Saúl Andrés, Fagot-Revurat Yannick, Leroy Frédéric, Cheynis Fabien
Аннотация
Ferroelectric Rashba semiconductors (FERSCs) such as α-GeTe are promising candidates for energy-efficient information technologies exploiting spin-orbit coupling (SOC) and are termed spin-orbitronics. In this work, the thickness limit of the Rashba-SOC effect in α-GeTe films is investigated. We demonstrate, using angle-resolved photoemission spectroscopy (ARPES) and first-principles calculations performed on pristine GeTe, that down to 1 nm, GeTe(111) films on a Sb-covered Si(111) substrate continuously exhibit a giant Rashba effect characterized, at 1 nm, by a constant of 5.2 ± 0.5 eV·Å. X-ray photoemission spectroscopy (XPS) allows the understanding of the persistence of the Rashba effect by evidencing a compensation of Ge vacancy defects resulting from the insertion of Sb interfacial atoms in the early stage growth of the GeTe(111) films.