Chemical communications (Cambridge, England) · 2011
An inorganic-organic diblock copolymer photoresist for direct mesoporous SiCN ceramic patterns via photolithography.
СтатьяПоддержка исследования: вне правительства СШАНазвание и аннотация: Перевод в очереди
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Nguyen Chi Thanh, Hoang Phan Huy, Perumal Jayakumar, Kim Dong-Pyo
Аннотация
A high resolution negative-tone-type of inorganic-organic diblock copolymer photoresist was synthesized as a novel precursor for simple and direct fabrication of SiCN ceramic mesoporous patterns with ordered nanoscale pores by using a "top-down" photolithographic technique and the subsequent sacrificial processes of a "bottom-up" self-assembled nanostructure.