Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids · 2011
Soft-lithographic approach to functionalization and nanopatterning oxide-free silicon.
СтатьяПоддержка правительства СШАНазвание и аннотация: Перевод в очереди
Обработка статьи · этапы, ошибки и управление
Загрузка состояния…
Ошибки и ограничения
История · было → стало
Состояние обновляется каждые 5 секунд, пока блок открыт. Процент показывается только там, где известен объём работы. Пауза останавливает продолжение этапа; текущий запрос к источнику может завершиться.
Shestopalov Alexander A, Morris Carleen J, Vogen Briana N, Hoertz Amanda, Clark Robert L, Toone Eric J
Аннотация
We report a simple, reliable high-throughput method for patterning passivated silicon with reactive organic monolayers and demonstrate selective functionalization of the patterned substrates with both small molecules and proteins. The approach completely protects silicon from chemical oxidation, provides precise control over the shape and size of the patterned features in the 100 nm domain, and gives rapid, ready access to chemically discriminated patterns that can be further functionalized with both organic and biological molecules.